在精密測量的復雜版圖中，Sensofar S neox 以其設計和強大的功能，成為眾多行業(yè)實現(xiàn)高精度檢測與研究的得力助手。無論是在追求工藝的工業(yè)生產(chǎn)，還是探索微觀奧秘的科研領域，S neox 都展現(xiàn)出適用性。
四合一技術，適應多元測量需求
S neox 將共聚焦、干涉、Ai 多焦面疊加以及薄膜測量技術融合于一體，打造出一套適應各類表面測量的綜合性方案。其共聚焦技術，借助高數(shù)值孔徑物鏡，能夠實現(xiàn)高達 0.15μm 的橫向分辨率，即使面對具有復雜微觀結構的樣品，也能精準捕捉其表面細節(jié)，特別適合關鍵尺寸測量。干涉技術涵蓋相位差干涉和白光干涉，前者能以亞納米級精度測量高度光滑且連續(xù)的表面，后者則在納米級精度下對各類表面進行高度形貌測量，且不同放大倍數(shù)下均能維持出色的縱向分辨率。Ai 多焦面疊加技術專為大粗糙表面設計，憑借主動照明機制，不僅能在高斜率（可達 86°）表面上穩(wěn)定工作，還能實現(xiàn)快速測量（速度高達 3mm/s），有效補充了低放大率下的測量能力。此外，S neox 的薄膜測量技術可在 1 秒內(nèi)完成對 50nm 至 1.5μm 厚度透明膜的測量，測量光斑最小可達 0.5μm，為薄膜相關研究與生產(chǎn)提供了高效手段。
高速采集，提升工作效率
得益于全新的智能算法與高性能相機，S neox 的數(shù)據(jù)采集速度達到了 180fps，標準測量采集速度相較于前代產(chǎn)品提升了 5 倍，成為市場上數(shù)據(jù)獲取極為高效的區(qū)域測量系統(tǒng)。這一特性在對大量樣品進行快速篩查，或在實時監(jiān)測生產(chǎn)線上產(chǎn)品質量時優(yōu)勢盡顯。例如，在半導體芯片制造的質量控制環(huán)節(jié)，S neox 能在短時間內(nèi)對芯片表面進行大面積掃描，迅速識別出潛在的缺陷，大大縮短了檢測周期，保障生產(chǎn)流程的高效運轉。
簡潔易用，降低操作門檻
Sensofar 始終致力于為用戶提供出色體驗，S neox 的第五代系統(tǒng)將操作便利性提升到新高度。即使是初次接觸的用戶，也能通過簡單的一鍵操作完成復雜測量任務。系統(tǒng)配套的 SensoSCAN 軟件擁有直觀的用戶界面，通過清晰的導航引導用戶在 3D 環(huán)境中進行操作。在測量準備階段，用戶借助概覽工具可對樣品進行全面檢查，確定測量位置，高倍放大操作也變得輕松便捷。同時，軟件具備的 3D 自動功能，能自動判斷并設置優(yōu)良測量參數(shù)，無需用戶手動調(diào)試，大幅提升了測量效率與準確性。
堅固耐用，適應復雜環(huán)境
在實際應用場景中，許多生產(chǎn)環(huán)境充滿挑戰(zhàn)，如存在振動、碎屑或腐蝕性物質等。S neox 通過精心設計，有效應對這些難題。其良好的密封構造可防止碎屑和顆粒進入內(nèi)部，無運動部件的光學設計極大降低了機械故障風險，保障系統(tǒng)長期穩(wěn)定運行。對于有特殊環(huán)境要求的行業(yè)，如半導體制造等對潔凈度要求領域，S neox 還推出了兼容 ISO 1 級無塵室的型號。該型號經(jīng)過嚴格測試，在滿足無塵環(huán)境要求的同時，保留了 S neox 的所有強大功能，確保在苛刻環(huán)境下仍能提供精準測量結果。
廣泛應用，助力多領域發(fā)展
S neox 的應用范圍極為廣泛。在半導體領域，可用于監(jiān)測化學機械拋光（CMP）過程中晶圓表面的平整度，為芯片制造工藝優(yōu)化提供關鍵數(shù)據(jù)；在光學元件制造方面，能精確檢測鏡片、透鏡等表面的微觀缺陷與粗糙度，保障光學元件的成像質量；在醫(yī)療設備生產(chǎn)中，對于微流體芯片、植入式器械等的表面質量檢測，有助于提升醫(yī)療器械的安全性與可靠性。以某光學企業(yè)為例，引入 S neox 后，其光學鏡片的次品率顯著降低，產(chǎn)品的光學性能一致性得到大幅提升，增強了企業(yè)在市場中的競爭力。
選擇 Sensofar S neox，意味著在精密測量領域擁有一位全面且可靠的伙伴。它憑借優(yōu)良技術、高效性能、便捷操作以及強大的環(huán)境適應性，為科研與工業(yè)生產(chǎn)提供精準、快速的測量解決方案，助力各行業(yè)在追求高精度與高質量的道路上不斷邁進，實現(xiàn)新的突破與發(fā)展。
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