布魯克應(yīng)對(duì)復(fù)雜表面挑戰(zhàn)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

ContourX-500布魯克應(yīng)對(duì)復(fù)雜表面挑戰(zhàn)
現(xiàn)實(shí)中的樣品表面往往并非理想平面。ContourX-500布魯克白光干涉系統(tǒng)，通過(guò)其技術(shù)彈性與多樣的分析模式，為測(cè)量具有高反射、透明、多層或大傾角等復(fù)雜特性的表面提供了可能的解決方案。

產(chǎn)品型號(hào)：ContourX-500

更新時(shí)間：2025-12-10

廠商性質(zhì)：代理商

訪問(wèn)量：39

產(chǎn)品咨詢 17701039158

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

布魯克 BEUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀 Sensofar 儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR結(jié)構(gòu)光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測(cè)量干涉儀 ZYGO三維光學(xué)輪廓儀布魯克三維光學(xué)輪廓儀

查看全部產(chǎn)品

Sensofar共聚焦白光干涉儀 | 用于維爾戈干涉儀儀器擋板的粗糙度表征

Sensofar：光學(xué)3D輪廓儀在深寬比樣品測(cè)量中的關(guān)鍵技術(shù)解析

插入物的前沿測(cè)量

詳細(xì)介紹在線留言

ContourX-500布魯克應(yīng)對(duì)復(fù)雜表面挑戰(zhàn)

現(xiàn)實(shí)中的樣品表面往往并非理想平面。ContourX-500布魯克白光干涉系統(tǒng)，通過(guò)其技術(shù)彈性與多樣的分析模式，為測(cè)量具有高反射、透明、多層或大傾角等復(fù)雜特性的表面提供了可能的解決方案。

理想的測(cè)量樣品或許具有均勻、適度反射且平坦的表面，但實(shí)際工作中遇到的挑戰(zhàn)遠(yuǎn)多于此。高反光金屬帶來(lái)的光暈、透明薄膜產(chǎn)生的多重反射、粗糙表面的強(qiáng)散射、陡峭側(cè)壁的信號(hào)丟失……這些問(wèn)題常常困擾著光學(xué)測(cè)量。ContourX-500布魯克的設(shè)計(jì)考慮到了這些復(fù)雜性，集成了多種技術(shù)策略來(lái)應(yīng)對(duì)挑戰(zhàn)。

對(duì)于高反射表面，如拋光金屬或鏡面，強(qiáng)烈的反射光可能超出相機(jī)動(dòng)態(tài)范圍，導(dǎo)致圖像飽和（過(guò)曝）或產(chǎn)生光暈偽影。ContourX-500布魯克通常提供硬件和軟件的雙重調(diào)節(jié)：硬件上可通過(guò)調(diào)整光源強(qiáng)度或使用偏振片來(lái)減弱入射光強(qiáng)；軟件上則采用高動(dòng)態(tài)范圍（HDR）成像技術(shù)，通過(guò)組合不同曝光時(shí)間的圖像來(lái)還原表面的真實(shí)灰度信息，從而獲得有效的干涉信號(hào)。

測(cè)量透明或多層結(jié)構(gòu)（如玻璃蓋板、OLED膜層）是另一個(gè)常見(jiàn)難點(diǎn)，因?yàn)閬?lái)自樣品上下表面或中間層界面的反射光會(huì)相互干擾，產(chǎn)生混亂的干涉信號(hào)。針對(duì)此，ContourX-500布魯克可能配備專門的“透明材料測(cè)量模式"或高級(jí)分析算法。這些算法能夠識(shí)別并分離來(lái)自不同界面的信號(hào)，從而單獨(dú)提取出目標(biāo)表面的形貌，或者測(cè)量薄膜的厚度（如果上下表面均能被分辨）。

當(dāng)面對(duì)具有大坡度或高深寬比的特征時(shí)（如深溝槽、銳利邊緣），入射光可能無(wú)法反射回探測(cè)器，導(dǎo)致數(shù)據(jù)缺失。這時(shí)，除了選用數(shù)值孔徑更高的物鏡以收集更大角度的反射光外，ContourX-500布魯克系統(tǒng)還可能支持多角度測(cè)量功能。通過(guò)傾斜樣品或使用帶有內(nèi)置棱鏡的特殊物鏡，從不同方向照明和觀察，然后通過(guò)軟件融合多個(gè)視角的數(shù)據(jù)，重建出完整的三維形貌。

對(duì)于本身是強(qiáng)散射體的粗糙表面，雖然白光干涉仍可工作，但其橫向分辨率可能因散射而下降。此時(shí)，設(shè)備中的共聚焦顯微模式可以發(fā)揮優(yōu)勢(shì)。共聚焦模式通過(guò)針孔的空間濾波作用，能有效抑制離焦散射光，提升圖像的對(duì)比度和信噪比，更適合于觀察和分析如噴砂表面、陶瓷斷面、紙張織物等復(fù)雜紋理。

應(yīng)對(duì)復(fù)雜表面的挑戰(zhàn)，不僅依靠設(shè)備的功能，也依賴于操作者的經(jīng)驗(yàn)和技巧。了解不同材料的光學(xué)特性，預(yù)判可能遇到的問(wèn)題，并據(jù)此選擇合適的測(cè)量模式、物鏡和參數(shù)，是成功測(cè)量的關(guān)鍵。ContourX-500布魯克通常提供詳細(xì)的應(yīng)用指南和技術(shù)支持，幫助用戶建立針對(duì)特定難測(cè)樣品的解決方案庫(kù)。

由此可見(jiàn)，ContourX-500布魯克并非只能在理想條件下工作。它更像一個(gè)配備了多種工具的工具箱，針對(duì)不同類型的復(fù)雜表面，操作者可以選擇合適的“工具"（測(cè)量模式與算法）來(lái)完成任務(wù)。這種靈活性使得它能夠適應(yīng)更廣泛的工業(yè)與科研應(yīng)用場(chǎng)景，成為處理疑難表面測(cè)量問(wèn)題時(shí)一個(gè)值得信賴的選項(xiàng)。

ContourX-500布魯克應(yīng)對(duì)復(fù)雜表面挑戰(zhàn)

上一個(gè)：ContourX-500布魯克：研發(fā)階段的得力伙伴